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Product
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
表面應(yīng)力儀主要參數(shù)尺寸：95 X 85 X 32(mm)采用微型處理器，自動(dòng)顯示應(yīng)力值:屏幕尺寸：70 X 50（mm）設(shè)備精度：±1.5（MPa）
產(chǎn)品分類(lèi)
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2024-06-112024-04-07| 品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,交通,汽車(chē),電氣 | 尺寸 | 95 X 85 X 32(mm) |
表面應(yīng)力儀(建筑玻璃用.半鋼化及全鋼化) 型號(hào)：HAD-E
表面應(yīng)力儀主要參數(shù)
尺寸：95 X 85 X 32(mm)
采用微型處理器，自動(dòng)顯示應(yīng)力值:
屏幕尺寸：70 X 50（mm）
設(shè)備精度：±1.5（MPa）
可用于室外環(huán)境及生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的應(yīng)力測(cè)試：
可以對(duì)于垂直幕墻進(jìn)行應(yīng)力測(cè)試
2.食品二氧化硫檢測(cè)儀 食品中二氧化硫殘留量蒸餾裝置 型號(hào)：HAD-69
該儀器是根據(jù)實(shí)驗(yàn)室蒸餾預(yù)處理操作規(guī)程，集恒溫加熱、蒸餾終點(diǎn)自動(dòng)控制、冷卻水循環(huán)于一體的新型智能蒸餾處理裝置。該儀器實(shí)驗(yàn)了精密控溫、自動(dòng)防倒吸、加熱均勻、防暴沸、智能終點(diǎn)控制等功能。使用方便，節(jié)能環(huán)保。經(jīng)過(guò)計(jì)量認(rèn)證實(shí)驗(yàn)室蒸餾回收率比對(duì)驗(yàn)證，結(jié)果準(zhǔn)確可靠，回收率達(dá)95%以上。
該儀器可廣泛適用于環(huán)保、疾控、水產(chǎn)、供排水、高校、科研院所、廠礦企業(yè)等各類(lèi)化學(xué)實(shí)驗(yàn)室需要蒸餾處理的場(chǎng)所，如揮發(fā)酚、氨氮、凱氏氮油中水分等項(xiàng)目的蒸餾處理及食品中的二氧化硫殘留的蒸餾實(shí)驗(yàn)。
主要技術(shù)指標(biāo)：
﹡加熱方式：采用進(jìn)口遠(yuǎn)紅外陶瓷加熱爐，紅外線(xiàn)輻射加熱（無(wú)明火加熱、防水）
﹡整機(jī)帶有微沸調(diào)節(jié)，自動(dòng)調(diào)節(jié)加熱功率，防止實(shí)驗(yàn)過(guò)程中爆沸。
加熱單元：6個(gè)，可單孔單控；
升溫時(shí)間：5-8min
﹡蒸餾速度：2-12ml/min（可調(diào)）
﹡氮?dú)庋b置：主機(jī)設(shè)有氮?dú)饪偨涌?，具有氮?dú)獗Ｗo(hù)功能，可單孔控制氮?dú)饬髁浚?/span>60-600ml/min）
﹡控制模式：采用雙重控制模式，可同時(shí)設(shè)置蒸餾儀體積重量和蒸餾時(shí)間，自動(dòng)停止加熱。自動(dòng)化程度高，無(wú)需人工看守。
﹡蒸餾終點(diǎn)控制：采用稱(chēng)重傳感器控制蒸餾終點(diǎn)，可任意設(shè)置蒸餾體積重量，自動(dòng)停止；通過(guò)設(shè)置控制精度±2ml
單孔功率：0-800W（單爐、可調(diào)）
總功率：0-4800W（可調(diào)）
冷卻方式：封閉式內(nèi)循環(huán)回流系統(tǒng)，無(wú)需外接冷卻水源
配有壓縮機(jī)制冷+風(fēng)冷雙重制冷降溫內(nèi)循環(huán)系統(tǒng)，適合大批量工作，冷凝效果更佳！
防倒吸：設(shè)有防真空電磁閥，具有防倒吸功能
時(shí)間控制：0-200min（可調(diào)）可通設(shè)置蒸餾時(shí)間自動(dòng)停止工作.
﹡一鍵式水箱加水，達(dá)到液位，蜂鳴報(bào)警，自動(dòng)停止加水。
蒸餾瓶規(guī)格：500mlX6
接收瓶規(guī)格：接收瓶不受限制（容量瓶、錐形瓶、量筒等）。
標(biāo)準(zhǔn)配置：
主機(jī)一臺(tái)、冷凝管8只、500ml蒸餾瓶8只、250ml玻璃容量瓶8只、三爪萬(wàn)用夾6個(gè)。氮球裝置8個(gè)
合格證一份、儀器操作說(shuō)明書(shū)一份、裝箱清單一份、產(chǎn)品保修單一份
3.電動(dòng)勻漿機(jī) 型號(hào):HAD-500
技術(shù)性能
1、 工作條件：環(huán)境溫度：溫室——40℃
相對(duì)濕度：75%
2、 電機(jī)功率：180W
3、 電機(jī)最高轉(zhuǎn)速：12000轉(zhuǎn)/分
4、 使用電源：?jiǎn)蜗?0周 220伏
5、 定時(shí)器：1-5分鐘
6、 整機(jī)質(zhì)量：8.5千克
7、 機(jī)身尺寸（長(zhǎng)寬高）：25*25*40（厘米）
本儀器勻漿杯(500ml一個(gè)，），（連勻漿刀）采用不銹鋼制作。
4.電動(dòng)勻漿儀 可調(diào)高速分散均質(zhì)機(jī) 型號(hào)：HAD-J200S
一、HAD-J200S可調(diào)高速分散均質(zhì)機(jī)，采用控硅高速度的調(diào)節(jié)系統(tǒng)，使用方便。主要用于動(dòng)物，植物組織勻漿粉碎，細(xì)胞分散。
二、特點(diǎn)
1、 采用內(nèi)吸式勻漿結(jié)構(gòu)，高速度。能進(jìn)行對(duì)不相溶的兩液體之間高效勻漿、乳化和水中微量有機(jī)化合物、脂溶物及對(duì)有機(jī)溶媒可溶性物質(zhì)的萃取。
2 、對(duì)各種動(dòng)物、植物的組織均能達(dá)到勻漿和混和目的。
3 、能使細(xì)胞膜破裂至核分離，并能用不同速度使DNA鏈斷裂，或使大分子物質(zhì)斷裂成小分子物質(zhì)
三HAD-J200S技術(shù)參數(shù)：
1、電機(jī)轉(zhuǎn)速: 20000轉(zhuǎn)/分
2、大勻漿刀: 8000-18000轉(zhuǎn)/分
3、小勻漿刀: 8000-20000轉(zhuǎn)/分
4、連續(xù)工作時(shí): ≤5分鐘
5、功 率:185W
6、電源電壓:220V 6OHz
7、整機(jī)重機(jī):5kg
5.金屬鍍層測(cè)厚儀 型號(hào)：HAD-1
電解測(cè)厚儀是結(jié)合國(guó)內(nèi)外的金屬鍍層電解測(cè)厚儀，具有結(jié)構(gòu)優(yōu)良，性能穩(wěn)定可靠，功能齊全的特點(diǎn)。使用本儀器可以保障用戶(hù)單位的產(chǎn)品質(zhì)量，防止原材料的能源的浪費(fèi)。利用本儀器還可以幫助用戶(hù)找到適合不同要求的電鍍工藝，是有關(guān)成品廠及電鍍廠的儀器
主要功能和特點(diǎn)：
1、本產(chǎn)品采用美國(guó)進(jìn)口芯片處理數(shù)據(jù)，具有高速串口、高速A/D、精準(zhǔn)、兼容、抗干擾、壽命長(zhǎng)。
2、中、英文界面切換液晶LCD顯示，具體顯示質(zhì)量高、數(shù)字式接口、體積小重量輕、功耗低等優(yōu)點(diǎn)。
3、熱敏打印機(jī)不用更換色帶。微型打印接口中、英文測(cè)試報(bào)告打印，打印鍍層種類(lèi)、厚度、測(cè)試人員、日期，內(nèi)部時(shí)鐘萬(wàn)年歷，無(wú)需每次設(shè)置。
4、自動(dòng)暫停測(cè)量提示更換電解液。以減少測(cè)量誤差。
5、自動(dòng)計(jì)算平均值。10微米以下是三位小數(shù)，精度1/1000。
6、可測(cè)多層鍍?nèi)纾篊r/Ni/Cu/塑料，報(bào)告可一次性打印出結(jié)果，不用分解打印
7、采用美國(guó)進(jìn)口標(biāo)準(zhǔn)片，校準(zhǔn)和標(biāo)定達(dá)到測(cè)量誤差值?？烧{(diào)導(dǎo)電系數(shù)減小誤差。
8．調(diào)整終點(diǎn)電位差，以適應(yīng)鍍層與基體之間電位。
9．以測(cè)量70種以上金屬鍍層基體組合，可以測(cè)量平面、曲面上的鍍層，可以測(cè)量小零件、導(dǎo)線(xiàn)、線(xiàn)狀零件
10．除鍍速度0.3-40 μm/分鐘可調(diào)
11．真空擠壓式氣泵循環(huán)攪拌,根據(jù)鍍層可調(diào)整攪拌力度氣量大小，以達(dá)到溶解狀態(tài),。
12．電解杯抗腐合金不銹鋼，不易腐蝕老化。
13、可調(diào)恒電流達(dá)到電解效率值。
14、操作界面功能矩陣按鍵直觀方便操作測(cè)量，輸入可直接完成.
15、矩陣按鍵采用進(jìn)口歐姆龍或NKK，具有1000萬(wàn)次以上壽命。
4.技術(shù)參數(shù)：
1. |
單層測(cè)量品種： | 鎳（0）；鉻（1）；銅（2）；鋅（3）；鎘（4）；錫（5）；鉛（6）銀（7）；金（8）；銅/Zn（9）；鉻/T（10）；鎳/Fe（11）等，其它鍍層可定制。注：A、鎳（0）是用于銅上鍍鎳；鎳/Fe（11）是用于鐵、鋁、塑料、陶瓷上鍍鎳，在測(cè)化學(xué)鎳時(shí)用慢速測(cè)量。B、鉻（1）用于裝飾鉻和六、四價(jià)鉻（0.001-20μm）;鉻/T（10）用于厚鉻20微米以上。C、銅（2）用于鐵、鋁、塑料、陶瓷等鍍銅；銅/Zn（9）用于鋅、鋅合金上鍍銅。 |
2. | 合金鍍層測(cè)量： | Pd-Sn、Cu-Zn、Zn-Ni 、Ni-P等。 |
3． | 多層鍍測(cè)量： | 陶瓷塑料、鐵、鋁、銅基體上鍍多層。 |
4. | 有效測(cè)量厚度范圍： | 0.03~300μm |
5. | 測(cè)量準(zhǔn)確度： | ±8% |
4. | 復(fù)現(xiàn)精度： | <3% |
6. | 電解電流精度： | ±0.5% |
7. | 測(cè)量面直徑： | Φ3.0mm；Φ2.5mm；Φ1.7mm； |
8. | 供電電源： | A C220±10%V；0.7A；50HZ/60HZ±0.5HZ；需有良好可靠接地。 |
9. | 選購(gòu)： | AC115V，100V，120V，230V，240V |
10. | 使用環(huán)境： | 溫度：+10~+40℃；相對(duì)濕度：不大于85%；要求周?chē)鸁o(wú)強(qiáng)腐蝕性氣體和強(qiáng)磁場(chǎng)干擾。 |
11. | 主機(jī)重量： | 6Kg； |
12. | 外型尺寸： | 350×260×160mm（長(zhǎng)×寬×高） |
以上參數(shù)資料與圖片相對(duì)應(yīng)
010-51655247
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