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當前位置:首頁  /  產(chǎn)品中心  /  其他專用儀器  /  壓片機  /  HZHY-401A粉末壓片機

粉末壓片機

產(chǎn)品簡介

壓樣機/粉末壓片機 型號:HZHY-401A

內(nèi)模式壓樣,可用于硼酸、鋼環(huán)、鋁杯、塑料環(huán)等各類壓樣方式。

*采用西門子可編程邏輯模塊控制動作程序,使操作更加簡便,性能更加穩(wěn)定可靠。

*有的緩加壓、慢泄壓程序更有利于保證壓樣合格率,提壓樣樣量。

*改的硼酸、鋁杯和鋼環(huán)模具結(jié)構與善的動作程序相結(jié)合,使壓樣成后能夠直接輕松推開擺臂。

*采用不銹鋼模具,延長了模具的使用壽命。

產(chǎn)品型號:HZHY-401A
更新時間:2025-01-13
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
訪問量:530
詳細介紹
品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應用領域能源,電子,交通,汽車,電氣

壓樣機/粉末壓片機  型號:HZHY-401A

內(nèi)模式壓樣,可用于硼酸、鋼環(huán)、鋁杯、塑料環(huán)等各類壓樣方式。

*采用西門子可編程邏輯模塊控制動作程序,使操作更加簡便,性能更加穩(wěn)定可靠。

*有的緩加壓、慢泄壓程序更有利于保證壓樣合格率,提壓樣樣量。

*改的硼酸、鋁杯和鋼環(huán)模具結(jié)構與善的動作程序相結(jié)合,使壓樣成后能夠直接輕松推開擺臂。

*采用不銹鋼模具,延長了模具的使用壽命。

粉末壓片機

壓力/t

40

模具類型

硼酸/鋼環(huán)/鋁杯/塑料環(huán)/低壓聚乙烯

立柱間距/mm

220

大行程/mm

100

保壓時間

電源

380V±10%,50Hz 三相+地線

額定率/kw

1.3

外形尺寸/mm

650×600×960

凈重/kg

350

使用環(huán)境溫度/℃

5~40




























2.自動滴膠機/勻膠機  型號:HAD-RJ1
技術參數(shù):
電源:AC 220V±10%/50Hz
消耗功率:<8W
空氣源:最大0.99MPa(潔凈無潤滑的干燥空氣)
吐出壓力調(diào)節(jié)范圍:0.05MPa--0.99MPa
吐出時間調(diào)節(jié)范圍:可調(diào)整DIP程式開關進行切換
         0.01秒-1秒;0.1-10秒;0.2-20秒;0.3-30秒
功能模式:手動模式/半自動模式(定量吐出)
真空回吸功能:可調(diào)節(jié)負壓控制至600毫米汞柱
重復精度及吐出頻率:精度:+0.05% 頻率:600次/分
最小吐出量:0.01ml
外形尺寸:235mmx225mmx63mm
重量:2.2kg

 

 

 

3.浸漬提拉涂敷機/勻膠機 型號:HAD-C128

產(chǎn)品簡介:
浸漬提拉涂敷法:(簡述)
            把需要涂敷的基片浸入溶液中,通過預先設置的速度,在一定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉起來,
      在基片的表面形成薄膜。膜層厚度由提拉速度,固體含量和液體粘度決定。用溶膠凝膠的方式涂敷成膜,
      空氣會使溶劑揮發(fā),而溶劑揮發(fā),又會進一步促使溶膠脫穩(wěn),使其進入凝膠過程,由于溶劑膠中的微小粒子(納米級),
      最后會形成透明的薄膜。提拉涂敷法適用于基片比較大,異形幾何體,兩面及多面涂敷成膜的情況。
            主要用于材料浸入液體,膠體中經(jīng)提拉在表面形成薄膜,適用于硅片,晶片,玻璃,陶瓷,木材,
           金屬等所有固體材料表面涂覆工藝??稍诳蒲校逃?,生產(chǎn)中應用。
"dip coater"行業(yè)稱:提拉機  提拉涂覆機
主要特點:
           * 計算機控制運行,運行參數(shù)記憶,一鍵復位,保障試驗過程可重復。
              實時狀態(tài)(距離mm,時間h:min:sec)數(shù)據(jù)顯示,方便觀察實驗現(xiàn)象。到位自動停機,聲音報告。
           * 高精度直線導軌控制運行軌跡,保障運行軌跡的精確直線性。
           *  2個工作位:可安放2個燒杯,內(nèi)盛不同粘度的膠體。
              每個工作位可夾持1個以上的“玻片"。工作效率更高。
           * 彈簧夾持“玻片",結(jié)構更簡單,操作更方便。
 

 
技術參數(shù):
       單相交流電源:220V.50Hz
       功率:30W
       最快直線速度:300mm/min
       最慢直線速度:5.9X10-7 m/sec (1毫米/0.47小時)
       有效提拉高度:128mm
可設定  時間:1秒----9小時59分59秒

 

 

 

 

4.真空冷鑲嵌機 型號:HAD-CB

產(chǎn)品型號:HAD-CB
 
產(chǎn)品簡介:用于多孔試樣鑲嵌,微型試樣鑲嵌:
          尤其是線路板、帶有微細孔的各種材料的鑲嵌。
          在工業(yè)中,還可與染色劑配合,用于各種缺陷的檢查。
          它的原理是把空氣從孔隙中吸出,再利用大氣壓的作用把鑲嵌料或染色劑壓
          進微細孔。
          還適用于將試樣粘貼到載片上制作薄片試樣
主要特點:
         *真空室較大,可同時浸漬或鑲嵌多個試樣。
         *真空室透明,方便觀察鑲嵌成型過程。
         *真空室有一定厚度的有機玻璃制造,不易破碎,遠比普通玻璃真空室要堅固,安全。
         * 操作簡便,外置柱狀裝置對導料管夾緊,操作簡單,阻斷可靠
                配合使用一次性耗材,
         *設置料杯安放架,防止料杯傾覆,防止污染桌面,更人性化。
         *內(nèi)置真空泵,采用新技術:保證不回油,不污染樣品.不產(chǎn)生油霧, 不污染室內(nèi)環(huán)境.
          (普通旋片式真空泵,可能回油,真空油反流到真空室,污染標本,操作失敗。
         普通旋片式真空泵,工作過程中,由于高速旋轉(zhuǎn)及摩擦生熱兩種原因產(chǎn)生油霧,
          污染室內(nèi)環(huán)境。 影響身體健康。 
         鑲嵌室底部由食品級有機材料制成,從而便于清潔,而且不會粘附廢浸漬液
 
技術參數(shù):真空度:-0.09MPa
電源: 交流  220V .  
產(chǎn)品規(guī)格:350mm寬 x300mm深 x280mm 高

 

 

 

 

5.半導體晶片甩干機 型號:HAD-T150

功能:

用于半導體晶片高速旋轉(zhuǎn)干燥。

 

機理:

高速旋轉(zhuǎn)使半導體晶片充分與空氣接觸,快速干燥。

 

參數(shù):

轉(zhuǎn)速可設置范圍:300-8000/分

時間可設置范圍:2*999秒

基片適用范圍:10mm-150mm.

結(jié)構:半導體晶片卡裝。

以上參數(shù)資料與圖片相對應








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